是当前国内工业水平的天堑。
掺杂：扩散法和离子注入法（原理、设备概念图，涉及高压加速、质量分析、扫描控制等，技术难度极高）的详细步骤。
*薄膜沉积：氧化、化学气相沉积、物理气相沉积的设备概念和工艺参数。
刻蚀：湿法刻蚀和干法刻蚀介绍。
互连：金属化、光刻形成金属布线图形、刻蚀金属。
封装与测试：划片、粘片、引线键合、塑料/陶瓷封装、电性能测试方法。
设计方法：从晶体管级电路设计到简单的逻辑门、寄存器等小规模集成电路的设计流程和版图绘制规则包含了早期电子设计自动化工具的雏形概念一一计算机辅助设计，但这对于当前连电子管计算机都稀缺的环境来说，更是遥不可及。
所需设备：资料中列出的设备清单，每一项都让石毅感到烦闷：
高纯度单晶炉（超高真空、精密温控）
精密研磨抛光设备
光刻机（含紫外光源、精密光学镜头、微米级对准平台）
高温扩散炉（精确控温、气氛控制）
离子注入机（概念图，涉及高压、真空、离子源）
CVD/PVD设备
等离子刻蚀机
超高真空镀膜机
精密光刻胶涂布/显影设备
高倍率显微镜、电性能测试仪
无尘室：这是所有工艺的基础环境要求，控制空气中尘埃粒子数量，等级要求远超当前任何工厂车间。其建造和维护成本极高。
仅仅是建造一个具备最基本芯片研发能力的实验室（不谈量产），所需的设备大部分需要从零开始研制，大部分买都没地方买。
材料像是高纯度硅、特种气体、光刻胶、高纯化学品等都需要进口。
而无尘室建造、顶尖人才引进和培养…其投入将是一个天文数字，足以掏空现在好几个军一厂的资产。虽然聂帅说了支持，但如果他去开口，估计会被赶出来，现在国家的情况可是很艰难，哪会有那么多的经费？
现在国家最重要的就是菌类制品，也就是蘑菇，别的可以暂且搁置。
而且相关领域的人才，军一厂根本就没有，就算是从全国搜罗了这方面的专家，对于十亿资料中所提到的超前技术，也跟普通学生没什么区别，根本无法直接转化为理解和执行力。
毕竟这些技术，尤其是光刻和离子注入，其精密度和复杂性远超50年代末的世界先进水平（当时主流还是锗晶体管、微米级光刻刚起步）。
石毅自己可以依靠系统强行理解，但无法将这份理解瞬间复制给他人。所以就算将人带到他的面前，也是需要慢慢培训，慢慢教授他一些知识，才能够投入工作。
石毅苦笑着收回来思绪，知道这事急不得，别人也帮不上什么忙，只能他慢慢努力了。
索性，现在的项目，已经足够军一厂生存和发展了。
“猛士”步战车及其他的军民产品，是当前军一厂的核心，是立足之本，是解决产能、养活工人、积累资金和技术的现实路径，也基本不用他操心了，只要按部就班的发展就行了。
他自己慢慢的搞吧，顺便培养一些这方面的人才。
思路理清，石毅感到心里的压力轻松不少。
他站起身，走到窗边。夜色正浓，但军一厂几处关键车间依然灯火通明，隐约传来机器的声响。那是工人们在为即将到来的生产高峰做准备，在为军一厂的生存和发展奋力拼搏。